Новый техпроцесс Samsung уменьшит процессоры на 25%
Южнокорейская компания завершила разработку 5-нм техпроцесса FinFET. В скором времени процессоры, произведенные по технологии фотолитографии в глубоком ультрафиолете (EUV), начнут отгружать клиентам.
По сравнению с 7-нм технологией новый процесс с использованием EUV обеспечивает увеличение эффективности логической зоны до 25% при снижении потребления энергии на 20% или 10-процентный рост производительности в результате улучшений архитектуры стандартного элемента, пишет Business Wire.
Другое ключевое преимущество 5 нм в том, что технология позволяет использовать все схемы, созданные для 7-нм процесса. Поэтому переход с 7 нм будет не таким затратным и сложным, как это обычно бывает.
Компания планирует начать коммерциализацию нового техпроцесса в следующем году. А в этом году обещает начать массовое производство микрочипов по технологии 6 нм, сообщает Hightech.plus.
МТСВТ
ИКТ
ТЕXHОЛОГИЧЕСКИЕ HОBШЕСТBA
ПОЧТА
О НАС
НОВОСТИ
ИНТЕРЕСНО
ИНТЕРВЬЮ
АНАЛИТИКА
